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MA-60F日本MIKASA米卡萨光刻机 - MaskAligner

日期:2024-01-13 08:04
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摘要:MA-60F日本MIKASA米卡萨光刻机 - MaskAligner

MA-60F日本MIKASA米卡萨光刻机 - MaskAligner

■ MA-60F日本MIKASA米卡萨光刻机 - MaskAligner特点■ 手动操作、接触式对准曝光机。■ 依照不同需求以及成本考量?有准直仪型?多面镜型?整合(积算器)型三种曝光光源。■ 有可对应5×5mm~100×100mm以及1 inch~6 inch的基板的各类机种。■ Mask Holder?载台的更换作业简单易行,可在1分钟内完成,适合用于研究开发。■ 对准显微镜的对物镜可对应高对准精度或厚膜等用途,并且有4×、10×、20×三种。

■ MA-60F日本MIKASA米卡萨光刻机 - MaskAligner共通规格接触方法软性接触/ 硬性接触( 部分选配)对准精度使用对物镜20×时<1.2μm(M-1S除外)对准显微镜双视野显微镜 对物镜间隔18~60mm(M-1S除外)曝光波长多频率(h.i.g线)

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